卷對卷鍍膜系統 (1.6m)

專為柔性基材設計的寬幅真空濺鍍系統,具備長期穩定運作與精密張力控制能力。

系統總覽

HTX 卷對卷鍍膜系統專為寬達 1.6 米的基材設計,專注於長時間運作下的傳輸穩定性與鍍膜均勻度。 系統架構優先考量機械平衡、受控張力以及真空環境下的可重複沉積行為。

R2R Internal Chamber View

1.6m 基材傳輸系統內部視圖。

設計重點

  • 寬幅傳輸穩定性 (Wide-Format Transport Stability):
    機械設計優化,確保大面積基材在傳輸過程中的對齊與平整度。
  • 精密張力控制 (Precise Tension Control):
    專為薄膜、柔性或表面敏感材料設計的張力管理系統。
  • 長期運作可靠度 (Long-Run Operational Reliability):
    針對長時間的連續鍍膜週期設計,確保製程行為的一致性。
  • 真空濺鍍整合 (Vacuum Sputtering Integration):
    完全相容於濺鍍沉積製程。

靶材相容性

系統架構允許根據製程需求,配置金屬或氧化物濺鍍靶材。

典型應用

  • 機能性紡織品與織物鍍膜
  • 柔性基材表面改質
  • 大面積材料開發與試量產

開始技術洽談

歡迎來信進行技術評估與系統適用性討論。

聯絡 HTX 工程團隊

如有可能,請於信中提供:

  • 基材材質與幅寬 (例如:PET / 紡織品, 1.6m)
  • 鍍膜目的
  • 目標層結構
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