專為柔性基材設計的寬幅真空濺鍍系統,具備長期穩定運作與精密張力控制能力。
HTX 卷對卷鍍膜系統專為寬達 1.6 米的基材設計,專注於長時間運作下的傳輸穩定性與鍍膜均勻度。 系統架構優先考量機械平衡、受控張力以及真空環境下的可重複沉積行為。
1.6m 基材傳輸系統內部視圖。
系統架構允許根據製程需求,配置金屬或氧化物濺鍍靶材。
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